(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202123387595.5 (22)申请日 2021.12.2 9 (73)专利权人 南京德成晟科技发展 有限公司 地址 211500 江苏省南京市六合区龙池街 道雄州南路399 号恒利园区214幢二单 元301室 (72)发明人 李雨玺　 (74)专利代理 机构 江苏长德知识产权代理有限 公司 32478 专利代理师 刘威威 (51)Int.Cl. B01D 50/60(2022.01) B01D 53/26(2006.01) (54)实用新型名称 一种工业用大功率半导体除尘装置 (57)摘要 本实用新型公开了一种工业用大功率半导 体除尘装置， 涉及工业除尘技术领域， 其技术方 案要点是该工业用大功率半导体除尘装置， 包括 大功率半导体装置， 大功率半导体装置的顶部设 有进风管， 进风管的另一端连接有除尘机构， 大 功率半导体装置的一侧设有排风管， 除尘机构 包 括壳体， 排风管的另一端贯穿壳体连接有转滤 筒， 转滤筒上方贯穿壳体设有高压水管， 高压水 管位于壳体内部设有若干个雾化喷头， 壳体内侧 位于高压 水管上方设有若干层干燥结构， 效果是 通过设置转滤筒和雾化喷头提高装置工作时产 生气体的除尘降温效果， 提高此装置的使用性 能。 权利要求书1页 说明书3页 附图1页 CN 217119769 U 2022.08.05 CN 217119769 U 1.一种工业用大功率半导体除尘装置， 包括大功率半导体装置(1)， 其特征是： 所述大 功率半导体装置(1)的顶部设有进风管(2)， 所述进风管(2)的另一端连接有除尘机构(4)， 所述大功率半导体装置(1)的一侧设有排风管(7)， 所述除尘机构(4)包括壳体(41)， 所述排 风管(7)的另一端贯穿壳体(41)连接有转滤筒(42)， 所述转滤筒(42)上方贯穿壳体(41)设 有高压水管(5)， 所述高压水管(5)位于壳体(41)内部设有若干个雾化喷头(51)， 所述壳体 (41)内侧位于高压水 管(5)上方设有若干层干燥结构(46)。 2.根据权利要求1所述的一种工业用大功率半导体除尘装置， 其特征是： 所述转滤筒 (42)内侧连接有若干个固定支架(43)， 所述固定支架(43)中间贯穿连接有转动杆(44)， 所 述转动杆(4 4)贯穿转滤筒(42)和壳体(41)连接有驱动电机(45)。 3.根据权利要求1所述的一种工业用大功率半导体除尘装置， 其特征是： 所述进风管 (2)上靠近大功 率半导体装置(1)处设有第一风扇(31)， 所述第一风扇(31)连接有第一风机 (3)。 4.根据权利要求1所述的一种工业用大功率半导体除尘装置， 其特征是： 所述排风管 (7)上设有第二 风扇(81)， 所述第二 风扇(81)连接有第二 风机(8)。 5.根据权利要求1所述的一种工业用大功率半导体除尘装置， 其特征是： 所述高压水管 (5)的另一端连接有提升泵(91)， 所述提升泵(91)的进水端贯穿连接有水箱(9)， 所述提升 泵(91)的进水端靠 近水箱(9)的底部 。 6.根据权利要求5所述的一种工业用大功率半导体除尘装置， 其特征是： 所述壳体(41) 上高于转滤筒(42)底部处设有回流管(6)， 所述回流管(6)的另一端贯穿连接到水箱(9)的 顶部。 7.根据权利要求1所述的一种工业用大功率半导体除尘装置， 其特征是： 所述壳体(41) 底部贯穿设有排污口(47)， 所述 排污口(47)上设有阀门(48)。 8.根据权利要求1所述的一种工业用大功率半导体除尘装置， 其特征是： 所述若干个干 燥结构(46)之间留有一定的空隙。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 217119769 U 2一种工业用大功率半导体除尘装 置 技术领域 [0001]本实用新型涉及工业 除尘技术领域， 更具体地说， 它涉及一种工业用大功率半导 体除尘装置 。 背景技术 [0002]半导体是指一种导电性可受控制， 范围可从绝缘体至导体之间的材料。 无论从科 技或是经济发展的角度来看， 半导体的重要性都是非常巨大的。 [0003]由于工业上在使用大功率半导体装置时容易产生大量的热， 如果不能及时将热量 散去， 会影响半导体的工作性能， 而且工作场景中的灰尘积聚到半导体上时也会影响其工 作性能， 鉴于此， 提供一种工业用大功率半导体除尘装置 。 实用新型内容 [0004]针对现有技术存在的不足， 本实用新型的目的在于提供一种既能帮助装置散热， 又能除尘的工业用大功率半导体除尘装置 。 [0005]为实现上述目的， 本实用新型提供了如下技术方案： 一种工业用大功率半导体除 尘装置， 包括大功 率半导体装置， 所述大功率半导体装置的顶部 设有进风管， 所述进风管的 另一端连接有除尘机构， 所述大功率半导体装置的一侧设有排风管， 所述除尘机构包括壳 体， 所述排风管的另一端贯穿壳体连接有转滤筒， 所述转滤筒 上方贯穿壳体设有高压水管， 所述高压水管位于壳体内部 设有若干个雾化喷头， 所述壳体内侧位于高压水管上方设有若 干层干燥结构。 [0006]优选地， 所述转滤筒内侧连接有若干个固定支架， 所述固定支架中间贯穿连接有 转动杆， 所述 转动杆贯 穿转滤筒和壳体连接有驱动电机 。 [0007]优选地， 所述进风管上靠近大功率半导体装置处设有第一风扇， 所述第一风扇连 接有第一 风机。 [0008]优选地， 所述 排风管上设有第二 风扇， 所述第二 风扇连接有第二 风机。 [0009]优选地， 所述高压水管的另一端连接有提升泵， 所述提升泵的进水端贯穿连接有 水箱， 所述 提升泵的进水端靠 近水箱的底部 。 [0010]优选地， 所述壳体上高于转滤筒底部处设有回流管， 所述回流管的另一端贯穿连 接到水箱的顶部 。 [0011]优选地， 所述壳体底部贯 穿设有排污口， 所述 排污口上设有阀门。 [0012]优选地， 所述若干个干燥结构之间留有一定的空隙。 [0013]与现有技 术相比， 本实用新型 具备以下有益效果： [0014]1、 通过设置转滤筒和雾化喷头提高装置工作时产生气体的除尘降温效果， 提高此 装置的使用性能。 [0015]2、 通过设置回流管， 增加了对转滤筒的清洁措施， 提高了转滤筒和雾化喷头的使 用效率。说　明　书 1/3 页 3 CN 217119769 U 3